Domestic journal 1 페이지 | ASTL

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Advanced Semiconductor Technology Laboratory

Domestic journal

2018

3

Tunable RF 기기 적용을 위한 ALD-HfO2의 마이크로파 대역 강유전체 특성 고찰 전기전자학회 논문지(Journal of Institute of Korean Electrical and Electronics Engineers), 제22권, 제3호, pp. 780-785, 9월, 2018. 한상우, 이창현, 이정해, 차호영 DOI : 10.7471/ikeee.2018.22.3.780, ISSN : 1226-7244 (Print), 2288-243X (Online)

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2

PECVD SiON 절연막을 이용한 4H-SiC MOS 소자 특성 연구 전기전자학회 논문지(Journal of Institute of Korean Electrical and Electronics Engineers), 제22권, 제3호, pp. 706-711, 9월, 2018. 김현섭, 이재길, 임종태, 차호영 DOI : 10.7471/ikeee.2018.22.3.706, ISSN : 1226-7244 (Print), 2288-243X (Online)

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1

P(VDF-TrFE) 유기물 강유전체를 활용한 질화갈륨 네거티브 커패시턴스 전계효과 트랜지스터 전기전자학회 논문지(Journal of Institute of Korean Electrical and Electronics Engineers), 제22권, 제1호, pp. 209-212, 3월, 2018. 한상우, 차호영 DOI : 10.7471/ikeee.2018.22.1.209, ISSN : 1226-7244 (Print), 2288-243X (Online)

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